MiScan 系列激光图形化直写设备省去了繁琐的掩膜加工步骤，提供快速，高效和低成本光刻制程的解决方案，尤其对于有光刻Mask外协需求的用户来说，可以自制相应的Mask降低成本或提升研发速度需求；本产品采用大功率的半导体激光光源，长寿命、低功耗；用户操作界面友好灵活，支持多种版图设计格式；可以可以根据自身的需求，方便灵活的选用不同的投影倍率实现多种模式的曝光。

Microlab是小型高精度微图形化系统，一款名副其实的微结构光刻加工"实验室"，与传统光刻设备不同，Microlab属于直写系统，无需掩模板，直接将设计数据光刻成“微结构”，工艺灵活。采用四轴运动控制（X-Y-theta-Z）和空间调制（SLM）技术，具有直角坐标、极坐标和在非平基面上光刻微图形的先进功能。 系统操作方便，支持24/7运行模式，尤其适合于MEMS、微流控、光电子、二元光学器件、光掩模、生物领域的科学研究与研究生实验之用途。

iGrapher实现了上述希望，突破了一系列关键技术难题，在硬件、软件和工艺上全面提升，实现了大幅面衬底上的微图形高速直写，对掩模文件、集成电路文件格式全兼容。采用高速空间光调制器（spatial light modulation），阵列图形输入模式（达8k帧），香蕉视频下载app导航飞行曝光（香蕉视频下载app navigation flying exposure）、纳秒时序平铺曝光（parallelism、 nano-second patterning）技术，专用于光掩模、柔性电子的微图形（线宽1um-10um）、LIGA工艺、微纳模具的高效光刻

平铺快速直写NanoCrystal实现了纳米结构的快速直写光刻功能，采用光斑平铺光刻模式，光斑内调制纳米结构分布，光刻效率比电子束快至少500倍，在阵列纳米器件等研究上，NanoCrystal的光刻速率，比电子束光刻快5000倍以上，如光刻直径20um的Fresnel透镜阵列， 每次曝光一个透镜，速度可达1000个/s。

以高速光刻直写为核心技术，创立5五轴自动联动、可调制光斑内的微纳结构的尺度、取向、像素位置和分布。在制版速度、制版图形的精度、制版幅面具有先进水平，是一款全功能的智能化全息制版系统。在制版功能上，可智能化制备所有类型的全息图像和衍射图像光刻模板，最大幅面可达65寸。

UV-纳米压印是一种基于紫外加工的低成本生产型技术。微光学、光电子、显示、全息行业对UV纳米压印的需求日益增长。

随着移动终端的超薄化，卷压（roll-to-roll）制程是生产超薄导光板的必然趋势。精密超薄导光板的批量生产涉及两项技术：柔性压印模具设计与制造、热压设备与工艺。

提供微纳模具、纳米压印模具、光掩模板、全息制版，导光板模具加工。香蕉视频污视频有业内先进水准的微纳光刻和激光精密加工设备。

香蕉视频污视频从事微纳光学原版、微纳结构器件模具制造的技术优良香蕉视频无限看 ，自主研发的大幅面激光制版设备，宽幅激光直写设备在技术性能、机台数量、制版种类和制品性能上位于行业前列。 所有类型的微纳结构图形均可在香蕉视频污视频实现。